離子式去膠機 型號：PR-3
通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。
射頻電源采用RF500W電源控制。

離子式去膠機 型號：PR-3   離子式去膠機

通過等離子體方法，對陶瓷片、硅片等襯底材料圖形上的光刻膠進行干法去除。設備為單室真空系統，主要由真空系統、氣路系統、電氣系統、射頻電源系統、控制系統、冷卻系統、報警系統等部分組成。

射頻電源采用RF500W電源控制。

氣路系統采用兩臺浮子流量計控制氣體進氣。

腔室結構：臥式、純石英

真空室規格：F210′300mm

限真空：1Pa（環境濕度≤55%）

真空系統:機械泵

大裝片直徑: F4英寸

大裝片容量：4英寸 25片/爐

去膠速率: ～500A/min

去膠不均勻性：≤±5％ (φ4吋范圍內)

操作方式:手動方式

用戶可選配全自動控制方式

SC-1B標準型勻膠機主要適用于半導體硅片、晶片、ITO導電玻璃、光學玻璃等工藝制版及表面涂覆，各種光刻膠表面膜制備。

采用變頻技術控制旋涂速度與時間，有效控制膠的厚度、均一性。可應用于各研究領域前期研發及小規模生產。

主 要 技 術 指 標1. 控制顯示：LED數字控制器，用戶可通過控制器進行參數修改設置

2. 勻膠模式：可同時輸入七組數值，即轉速及勻膠時間可任意設置為Ⅰ檔、Ⅱ擋、……Ⅶ檔，轉速啟動后先低速運轉（Ⅰ檔），然后自動執行Ⅱ檔、……Ⅶ檔，直至達到高速運轉。

3．勻膠時間：1～9999s任意時間可設置

4．勻膠速度：0～8000rmp可調

5．旋轉加速度：0～8000rpm/sec 由低速到高速加速時間0.1s～0.5s

6．轉速穩定度：±1rmp

7．涂膠均勻性：±3%

8．

可鍍膜尺寸：Ф5～Ф150mm（6〞）

9．基片厚度：  ≤5mm

配 置 參 數1．設備配置Ф200mm接膠裝置

2．電機功率：90W，額定轉速8000rmp

3．真空泵：FY-1C旋片式真空泵，抽速60L/min(用戶可選配無油型真空泵)

4．樣片托：標配1英寸一個，2英寸一個，其它規格按要求定制

5．輸入電源： AC220V/240V  50HZ

6．整機功率：100W

7．機身尺寸： 280×360×240mm

8．機身重量：10Kg

超聲波多普勒流速流向儀 直讀式海流計 型號：HXH03-1

產品簡介

HXH03-1型超聲波多普勒流速流向儀適用于河口、海洋、岸邊觀測站、船只和浮標等水域的流速、流向和水溫測量，也可以用于固定安裝在線自動測量。

性能特點

1、測量精度高，量程寬，可測弱流，也可測強流；

2、感應靈敏，分辨率高，不受啟動流速限制；

3、響應速度快，可測瞬時流速，也可測平均流速；

4、測量線性，不存在校正曲線的K、C值；

5、無機械轉動部件，不存在泥沙堵塞或水草、雜物纏繞等問題，適用于泥沙懸浮物含量高，水草等漂浮物多的河流中測量。

功能介紹

1、大屏幕液晶顯示具有連續背景光功能；

2、儀器電纜可直接負重和懸掛兩種方式；

3、內置大容量數據存儲器，容納高達5000組數據；

4、內置完整時鐘，方便用戶校準和查詢時間；

5、配有數據讀取軟件，實現數據存儲、打印和輸出功能；

6、內置流向調零置校功能，滿足不同地區的需求；

7、實時顯示流速值、溫度值和流向值；

8、測量模式分自動測量和手動測量，滿足不同場合的用途;

9、可通過GPRS模式即時將測量數據遠程傳輸到多五個的用戶終端。

技術參數

測流范圍0.02-7.00m/s

測流準確度1.0%±1cm/s

分辨率1mm

流向測流范圍0-360°  方位角

測量準確度±3°

水溫測量范圍0-40℃

測溫準確度±1℃

工作水深0.1-80m(可增加至200米)

測量模式自動和手動兩種

測量間隔自動方式：分0-120分鐘選擇值，以5分鐘費小遞增或遞減間隔單位

手動方式：可單次或連續多次測量，間隔任意

測速歷時自動方式：60秒、100秒兩種

手動方式：10-120秒，遞增或遞減選擇

工作電源AC220V，50HZ,±10%；DC12V±10%（內可增設蓄電池）

輸出接口RS485或RS232或USB接口，標準的MODBUS 協議

功耗待機＜0.2W，測速＜7W

體積和重量探頭尺寸:450x180x180mm，重量：4.5kg

主機尺寸：235x215x90mm，重量：1.86kg

外包裝箱外形尺寸：560x560x300mm

測量方式1、懸吊測量   2、固定安裝測量

產品名稱：全中文菜單揮發酚儀 產品型號：HFF-3A